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Eintrag

Kategorie:
Ion-beam etching

Art des Gerätes:
Sonstiges/Other

Bezeichnung der übergeordneten Forschungsinfrastruktur (optional):
Sonstiges/Other

Zusätzliche Methoden und Synergien mit anderen Geräten (optional):

Identifikationsnummer (optional):
sonstiges-other-57

Kurze Beschreibung des Gerätes (maximal 5000 Zeichen):
"Ion-beam etching (IBE) Oxides (SiO2, TiO2), Nitrides (SiNx). Available gases: Ar, O2, SF6, CHF3, CF4. Equipped with SIMS and OES. Same tool as for IBD (""scia Coat 200"")."

Hersteller:
scia Systems

Jahr des Erwerbs (optional):

Modell:
scia Coat 200

Notwendige / einschränkende Rahmenbedingungen für den Einsatz (optional):
200 mm wafers / Material category B

Nutzergruppen:
Internals and externals

Art der Nutzung:
Operator

Fakultät:

• Faculty 6 – Electrical Engineering and Information Technology

Fachgruppe / Lehreinheit (optional):

Institutskennziffer (IKZ):
ZMNT – Central Laboratory for Micro- and Nanotechnology

Website (optional)

Adresse (optional):
ZMNT, module 1, Building No. 4230, Room 006

Ansprechpartner*in:
Dr.-Ing. Birger Berghoff

E-Mailadresse (optional):