Zurück

Eintrag

Kategorie:
Chemical vapor deposition

Art des Gerätes:
Sonstiges/Other

Bezeichnung der übergeordneten Forschungsinfrastruktur (optional):
Sonstiges/Other

Zusätzliche Methoden und Synergien mit anderen Geräten (optional):

Identifikationsnummer (optional):
sonstiges-other-5

Kurze Beschreibung des Gerätes (maximal 5000 Zeichen):
"Plasma-enhanced chemical vapor depostion (PECVD) of 2D materials (graphene, hBN, TMDs). Availlable gases: He, Ar, N2, O2, H2, CF4, C2H2, CH4, Mixture (B2H6 3%, He 97%), NH3, N2O, Mixture (H2S 3%, He 97%). Available precursors: C6H14Se, Mo(CO)6, W(CO)6. Part of Cluster-Tool 2 (Nanofab, FlexAL, 4-way handler, load-unload chamber). AVAILABLE IN 2026."

Hersteller:
Oxford Instruments Plasma Technology

Jahr des Erwerbs (optional):

Modell:
Nanofab

Notwendige / einschränkende Rahmenbedingungen für den Einsatz (optional):
200 mm wafers / Material category B

Nutzergruppen:
Internals and externals

Art der Nutzung:
Operator

Fakultät:

• Faculty 6 – Electrical Engineering and Information Technology

Fachgruppe / Lehreinheit (optional):

Institutskennziffer (IKZ):
ZMNT – Central Laboratory for Micro- and Nanotechnology

Website (optional)

Adresse (optional):
ZMNT, module 2, Building No. 4254, Room C008

Ansprechpartner*in:
Dr.-Ing. Birger Berghoff

E-Mailadresse (optional):