Zurück

Eintrag

Kategorie:
Thermal processing

Art des Gerätes:
Sonstiges/Other

Bezeichnung der übergeordneten Forschungsinfrastruktur (optional):
Sonstiges/Other

Zusätzliche Methoden und Synergien mit anderen Geräten (optional):

Identifikationsnummer (optional):
sonstiges-other-32

Kurze Beschreibung des Gerätes (maximal 5000 Zeichen):
"Dry oxidation of silicon. Tmax = 1150 °C. Available gases: O2, N2."

Hersteller:
centrotherm

Jahr des Erwerbs (optional):

Modell:
E1200 HT210-4

Notwendige / einschränkende Rahmenbedingungen für den Einsatz (optional):
100 mm wafer

Nutzergruppen:
Internals and externals

Art der Nutzung:
Operator

Fakultät:

• Faculty 6 – Electrical Engineering and Information Technology

Fachgruppe / Lehreinheit (optional):

Institutskennziffer (IKZ):
ZMNT – Central Laboratory for Micro- and Nanotechnology

Website (optional)

Adresse (optional):
ZMNT, module 1

Ansprechpartner*in:
Dr.-Ing. Birger Berghoff

E-Mailadresse (optional):