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Eintrag

Kategorie:
Thermal processing

Art des Gerätes:
Sonstiges/Other

Bezeichnung der übergeordneten Forschungsinfrastruktur (optional):
Sonstiges/Other

Zusätzliche Methoden und Synergien mit anderen Geräten (optional):

Identifikationsnummer (optional):
sonstiges-other-31

Kurze Beschreibung des Gerätes (maximal 5000 Zeichen):
"Wet and dry oxidation of silicon. Available gases: O2, H2, N2, forming gas (H2 5%, N2 95%). Part of the horizontal furnace ""LDS-200-2"" with two stacked quartz tubes. Upper quartz tube of two stacked tubes."

Hersteller:
INOTHERM

Jahr des Erwerbs (optional):

Modell:
LDS-200-2

Notwendige / einschränkende Rahmenbedingungen für den Einsatz (optional):
100, 150 and 200 mm wafers / Material category A

Nutzergruppen:
Internals and externals

Art der Nutzung:
Service (intern and extern)

Fakultät:

• Faculty 6 – Electrical Engineering and Information Technology

Fachgruppe / Lehreinheit (optional):

Institutskennziffer (IKZ):
ZMNT – Central Laboratory for Micro- and Nanotechnology

Website (optional)

Adresse (optional):
ZMNT, module 2, Building No. 4254, Room C007

Ansprechpartner*in:
Dr.-Ing. Birger Berghoff

E-Mailadresse (optional):