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Eintrag

Kategorie:
Atomic layer deposition

Art des Gerätes:
Sonstiges/Other

Bezeichnung der übergeordneten Forschungsinfrastruktur (optional):
Sonstiges/Other

Zusätzliche Methoden und Synergien mit anderen Geräten (optional):

Identifikationsnummer (optional):
sonstiges-other-3

Kurze Beschreibung des Gerätes (maximal 5000 Zeichen):
"Atomic layer deposition (ALD) of Al2O3, HfO2 and TiN to encapsulate 2D materials. Availlable gases: Ar, N2, O2, H2, SF6. Available precursors: C3H9Al, C8H24N4Ti, C8H24HfN4. Part of Cluster-Tool 2 (Nanofab, FlexAL, 4-way handler, load-unload chamber). AVAILABLE IN 2026."

Hersteller:
Oxford Instruments Plasma Technology

Jahr des Erwerbs (optional):

Modell:
FlexAL (tool 2)

Notwendige / einschränkende Rahmenbedingungen für den Einsatz (optional):
200 mm wafers / Material category B

Nutzergruppen:
Internals and externals

Art der Nutzung:
Operator

Fakultät:

• Faculty 6 – Electrical Engineering and Information Technology

Fachgruppe / Lehreinheit (optional):

Institutskennziffer (IKZ):
ZMNT – Central Laboratory for Micro- and Nanotechnology

Website (optional)

Adresse (optional):
ZMNT, module 2, Building No. 4254, Room C008

Ansprechpartner*in:
Dr.-Ing. Birger Berghoff

E-Mailadresse (optional):