Zurück

Eintrag

Kategorie:
Rapid thermal processing

Art des Gerätes:
Sonstiges/Other

Bezeichnung der übergeordneten Forschungsinfrastruktur (optional):
Sonstiges/Other

Zusätzliche Methoden und Synergien mit anderen Geräten (optional):

Identifikationsnummer (optional):
sonstiges-other-29

Kurze Beschreibung des Gerätes (maximal 5000 Zeichen):
"Rapid thermal processing (RTP) furnace for thermal dry oxidation of silicon. Temperature up to 1450 °C. Pressures down to 0.1 mbar. Same tool as for hydrogen etching and hydrogen surface smoothing."

Hersteller:
Annealsys

Jahr des Erwerbs (optional):

Modell:
AS-Master S20 HT

Notwendige / einschränkende Rahmenbedingungen für den Einsatz (optional):
"from samples up to 6"" wafers / Material category A"

Nutzergruppen:
Internals and externals

Art der Nutzung:
Operator

Fakultät:

• Faculty 6 – Electrical Engineering and Information Technology

Fachgruppe / Lehreinheit (optional):

Institutskennziffer (IKZ):
ZMNT – Central Laboratory for Micro- and Nanotechnology

Website (optional)

Adresse (optional):
ZMNT, module 1, Building No. 4230, Room 007

Ansprechpartner*in:
Dr.-Ing. Birger Berghoff

E-Mailadresse (optional):