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Eintrag

Kategorie:
Rapid thermal processing

Art des Gerätes:
Sonstiges/Other

Bezeichnung der übergeordneten Forschungsinfrastruktur (optional):
Sonstiges/Other

Zusätzliche Methoden und Synergien mit anderen Geräten (optional):

Identifikationsnummer (optional):
sonstiges-other-28

Kurze Beschreibung des Gerätes (maximal 5000 Zeichen):
"Rapid thermal oxidation (RTO) and rapid thermal nitridation (RTN) of silicon. RTO: 300-1050 °C, 5-1000 mbar RTN: 300-900 °C, 5-1000 mbar Available gases: Same tool as for hydrogen etching and hydrogen surface smoothing.."

Hersteller:
Annealsys

Jahr des Erwerbs (optional):

Modell:
AS-One 150

Notwendige / einschränkende Rahmenbedingungen für den Einsatz (optional):
"from samples up to 6"" wafers / Material category A"

Nutzergruppen:
Internals and externals

Art der Nutzung:
Operator

Fakultät:

• Faculty 6 – Electrical Engineering and Information Technology

Fachgruppe / Lehreinheit (optional):

Institutskennziffer (IKZ):
ZMNT – Central Laboratory for Micro- and Nanotechnology

Website (optional)

Adresse (optional):
"Rotation Building --> ZMNT, module 2"

Ansprechpartner*in:
Dr.-Ing. Birger Berghoff

E-Mailadresse (optional):